Để che phủ 1g silicagel (SiO2.H2O) bằng một lớp đơn phân tử cần thể tích khí nitơ là Vm = 129ml (ở 1atm và 00C). Tính diện tích bề mặt của silicagel, nếu độ phủ cơ bản của nitơ là 16,2Å2.

•  561,91 m2/g
•  361,91 m2/g
•  261,91 m2/g 
• 961,91 m2/g

Cho phản ứng xảy ra trong bình có thể tích cố định: (CH3)2O → CH4 + CO + H2

Phản ứng phân hủy là bậc 1. Ban đầu chỉ có ete với áp suất P0 = 300 mmHg. Sau 10 giây, áp suất của hệ là 308,1 mmHg. Tính k, t1/2 của phản ứng trên.

•  1,36 s^-1; 509,97 s 
• 1,36 s^-1; 109,27 s 
• 3,36 s^-1; 509,97 s 
• 8,79 s^-1; 123,99 s

Phản ứng phân hủy axit nitric xảy ra theo cơ chế giả thiết sau đây:

HNO3 → HO. + NO2 (k₁); NO2 + HO. → HNO3 (k₂); HNO3 + HO. → H2O + NO3. (k₃).

Hãy áp dụng nguyên lý nồng độ ổn định đối với HO., tìm biểu thức của d[HNO3]/dt?

•  -2k₁[HNO3].(1 + k₂[NO2]/k₃[HNO3])^-1
• -2k₁[HNO3].(1 + k₃[HNO3]/k₂[NO2])^-1
•  -2k₁[HNO3].(1 + k₂[NO2].k₃[HNO3])^-1
•  -2k₁[HNO3].(1 - k₂[NO2]/k₃[HNO3]).^-1
• Các bạn giúp mình với !!! :/

•  14,12 phút và 6,53 phút
•  14,12 phút và 13,06 phút 
• 7,06 phút và 6,53 phút 
• 7,06 phút và 13,06 phút

Ở 200C, khi nhúng một ống mao quản thủy tinh vào benzen thì cột chất lỏng dâng lên đến hx =5cm, còn khi nhúng vào nước thì cột nước dâng lên đến h = 11,3cm. Tính sức căng bề mặt σ của benzen ở nhiệt độ trên?

Biết: σH2O = 72,75 dyn/cm; ρH2O = 0,997 g/cm3; ρC6H6 = 0,899 g/cm3.

•  29,02.10-3 N/m.
•  30,12.10-3 N/m
• . 27,33.10-3 N/m. 
• 19,46.10-3 N/m.

Cho pin: (-) (Pt) H2(P = 1atm) |H+ (C=0,01), H2O | O2 (P = 2 atm) (Pt)­ (+)

a, Viết các phản ứng điện cực và phản ứng xảy ra trong pin

b, Tính sức điện động E của pin và ∆G của phản ứng trên ở 25oC. Biết:

φoO2,H+/H2O = 2,3 v; φoH+/H2 = 0,0 v

•  2,304 v; - 889,43 kJ 
• 2,304 v; - 334,27 kJ 
• 1,037 v; - 889,43 kJ 
• 5,134 v; - 224,86 kJ

Phản ứng phân hủy nhiệt Metan xảy ra theo cơ chế giả thiết sau đây:

CH4  → CH3. + H. (k1); CH4 + CH3. → C2H6­ + H. (k2); CH4 + H. → CH3. + H2 (k3); 

CH3. + H. + M → CH4 + M (k4).

Trong đó, M là một phần tử bất kỳ trong hệ. Hãy áp dụng nguyên lý nồng độ ổn định đối với H. và CH3. để thiết lập phương trình động học hình thành C2H6.

•  d[C2H6]/dt = [CH4]^3/2.sqrt(k1k2k3/k4[M]).
•  d[C2H6]/dt = [CH4]^3/2.sqrt(k1k2k3/k4[M]).
•  d[C2H6]/dt = [CH4]^3/2.sqrt(k1k2k4/k3[M]).
•  d[C2H6]/dt = [CH4]^1/2.sqrt(k2k3/k1k4[M]).

Phản ứng phân hủy NH3 trên bề mặt Vonfram đốt nóng, xảy ra theo phương trình sau:

2NH3 → N2 + 3H2

Người ta đo sự tăng áp suất theo thời gian như sau:

Thời gian, s      100    200    400   600     800    1000

DP, mmHg       11,0   22,1   44,0  66,3    87,9     110,0

a) Xác định bậc của phản ứng;

b) Nếu áp suất P0 = 200 mmHg, thì hằng số tốc độ phản ứng bằng bao nhiêu?

•  n = 0; k = 0,11 mmHg.s-1 
•  n = 1; k = 0,21 mmHg.s-1 
• n = 2; k = 0,11 mmHg.s-1 
• n = 3; k = 0,31 mmHg.s-1

Phản ứng phân hủy N2O5 xảy ra theo phương trình sau: 2N2O5 → 2N2O4 + O2

Áp suất  của N2O5 phụ thuộc theo thời gian như sau:

a) Xác định bậc của phản ứng;

b) Tính hằng số tốc độ phản ứng?

•  n = 1; k = 0,00805 ph-1
•  n = 2; k = 0,00805 ph-1 
• n = 3; k = 0,00805 ph-1 
• n = 0; k = 0,00805 ph-1